據消息報導，IBM公司在本周宣布，其通過計算機完成了“high-k”工藝的金屬元素配比模擬試驗。據悉新近完成的試驗用計算機模擬了50種元素配比，有助于“high-k”工藝的開發。如果進展順利，IBM使用high-k工藝的芯片產品將于08年投產。
據悉，IBM瑞士蘇黎世研究實驗室的專家使用4096 CPU的藍色基因/L超級計算機完成了這一試驗，為每一種配比中二氧化鉿以及硅元素的600個原子的相互作用花費5天的計算時間進行了精確模擬。
“high-k”工藝是目前芯片制造技術當中的一項尖端領域，即利用更高介電常數的金屬柵極取代傳統的低介電常數（low-k）的二氧化硅柵極，從而大大解決漏電問題，能夠使處理器芯片速度提升同時降低耗能。high-k工藝的關鍵就是金屬元素配比問題，Intel稱這中間有上百種可能。目前Intel已經宣布將在45nm的Penryn處理器中使用high-k工藝。
（第三媒體 2007-02-28）