據國外報道，本周一IBM公司宣布，它已成功研究出了一種方法，開發出193納米DUV(deep-ultraviolet optical lithography)技術，可以用現有的設備生產出29.9納米的硅片——把硅芯片上的電路線寬縮小到29.9納米，這已比人的頭發細3000倍，僅相當于目前芯片業中主流90納米電路線寬的三分之一。這項技術進步有助于在未來芯片生產中降低成本，現在，英特爾最新的Core Solo和Core Duo處理器已采用了65納米生產工藝，而AMD處理器仍然在采用90納米生產工藝。
對于IBM的這一個新技術，業界人士分析認為，從某種意義上來看，它已經為摩爾定律繼續生效掃清了障礙，至少在2015年之前，摩爾定律將繼續生效。而著名的摩爾定律，就是英特爾聯合創始人高頓-摩爾(Gordon Moore)1965年提出的：單位面積芯片上的晶體管數量大約每兩年增加一倍。多年以來，芯片產業的發展一直遵循著這一規律。
據IBM公司的羅伯特-阿倫(Robert D. Allen)博士稱，IBM的新技術為整個芯片行業贏得了七年的“喘息”時間。七年之后，要使摩爾定律繼續生效，必須有更加先進的技術出現。從短期來看，IBM的新技術可以為整個芯片行業節省數十億美元的研發支出。當然，一旦這項技術成為“過去式”，芯片行業必須重新上路，尋找新的替代方法。
據稱，芯片業內的目標之一就是要降低電路線寬，從90納米到65納米再到45納米，然后再向32納米努力；而業界普遍認為32納米是現有光刻技術的極限。隨著電路體積越來越小，當前生產工藝已經接近了物理極限。因此，近年來業界一直在尋找新方法，希望突破生產工藝瓶頸，努力減小芯片部件體積，以便在硅片上配置更多的部件，生產出速度更快、性能更高的芯片；從而延續為期40年之久的摩爾定律。而目前密度最大的計算機內存芯片，可存儲40億位信息，但是隨著摩爾定律的延伸，在2013年，計算機內存芯片將可以存儲640億位信息。按照當前的標準，這類芯片將可以存儲大約2000首歌曲。
（第三媒體 2006－02－21）