![尼康曝光設備: 第4季度開始銷售!尼康發布ArF曝光設備](http://big5.thethirdmedia.com/g2b.aspx/www.thethirdmedia.com/null.gif)
據悉,尼康日前正式宣布,開發出了開口數(NA)為1.30的液浸ArF曝光設備“NSR-S610C”,將于2006年第4季度開始銷售。分辨率為45nm,可用于半間距45nm的內存和32nm工藝邏輯LSI的量產。該公司過去曾介紹說將于2006年下半年供應NSR-S610C,看來其開發工作基本符合預定計劃。這款NA1.30的曝光設備采用由反射鏡和折射透鏡組成的反射折射型光學系統。對于該光學系統,尼康表示:“采用了不會產生光斑和熱像差問題的設計與生產方式,能夠得到穩定的成像性能。” (第三媒體 2006-07-12)