日前，Intel公司與Corning公司已經達成了一份開發超低散熱膨脹物——ULE玻璃制圖片罩材料的協議，這是為了滿足Extreme Ultraviolet （EUV）平板印刷技術的需要而進行的一項開發。 這些材料被拿來進行低瑕疵率EUV圖片罩的開發，通過利用EUV平板印刷技術，能生產出32納米節點的大容量產品。
平板印刷工具被用于芯片生產中，它所做的工作就是在一塊硅晶片上“印制圖案”。今天，工業界使用的平板印刷工具已經可以利用一種193納米長的光波在50納米的節點上去“印制晶體管”。這就好比一個畫家正試圖用一把大刷子來畫一些非常纖細的線條一樣。目前著手開發的EUV平板印刷技術將使用的光波僅有13.5納米長，因此它能提供給芯片制造商們一把非常“纖細”的刷子，以便他們在未來“繪制”出更微型的晶體管。
EUV平板印刷技術已經得到國際半導體技術Roadmap的認證，它繼當代193納米平板印刷工具之后，將成為下一代平板印刷工具的領先技術。
Intel平板印刷技術總管Janice Golda說：“EUV技術用于商業生產的關鍵問題是如何降低EUV圖形罩的瑕疵率。目前，Corning和Intel公司正計劃研制這種面罩的基礎材料。相信隨著這種高質量EUV面罩的開發成功，加上Intel在光材料、平板印刷設備和新型底片方面相關聯的一些成果，將更加有助于EUV平板印刷技術成為未來的一種核心技術，以此迎合廠家的基礎需求。
這個聯合開發項目將有助于采用EUV技術的芯片生產能夠從2009年開始順利進行。（第三媒體 2005-07-11）