據悉，韓國科技部本周四正式表示，韓國科學家已經成功研制出了震驚科技領域重大突破的——2納米的全球最薄的金屬線。 根據english.yna.co.kr的報道,韓國科學家這次研制出的金屬線寬度，僅僅只有2納米，它是由韓國首都首爾的Yonsei大學原子線研發中心所開發研制的；該項研究起始于2003年，費用系由韓國科技部所贊助，其總耗資金額已經達到了214萬美元。
據稱，迄今為止韓國三星旗下最為先進的16G內存仍然使用著50納米設計標準，而目前業界所制定的目標，也只是成功過渡到25納米技術。
對于韓國研制出的2納米金屬線，業內人士分析認為，隨著這種超薄金屬線技術的面世，未來半導體產品將擁有更大的容量和更快的速度。而據此次研究小組的12位科學家透露，通過此項技術，未來內存芯片的尺寸將會極大程度上被降低，而半導體篆刻工藝也將進入全新的2納米時代。（第三媒體 2005－11－17）